| 是否进口：否 | 加工定制：是 | 品牌：瑞格锐思 |
| 型号：氧化硅片 | 订货号：氧化硅片 | 货号：氧化硅片 |
热氧化物表面形成二氧化硅层。在氧化剂的存在下在升高的温度下，给过程称为热氧化。通常生长热氧化层的在水平管式炉中。温度范围控制在900到1200摄氏度，使用湿法或者干法的生长方法。热氧化物是一种生长的氧化物层。相对于CVD法沉积的氧化物层，它具有较高的均匀性和更高的介电强度。这是一个极好的作为绝缘体的介电层。大多数硅为基础的设备中，热氧化层都扮演着非常重要的角色，以保护硅片表面。作为掺杂障碍和表面电介质。
产品规格：
1英寸二氧化硅片（300nm）
2英寸二氧化硅片（300nm）
3英寸二氧化硅片（300nm）
4英寸二氧化硅片（300nm）
6英寸二氧化硅片（300nm）
8英寸二氧化硅片（300nm）
其他定制规格
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